Thermodynamic study on advanced purification of silicon. I. The study of the equilibrium in the system Si, SiCl, SiCl2, HnSiCl4-n(n=0…4), HCl and H2 Vezi publicația: Revue Roumaine de Chimie Anul publicaţiei: 1966Referinţă bibliografică pentru nr. revistă: 11-1; anul 1966 Paginaţia: 85-101 Navigare în nr. revistă: |< < 10 / 17 > >| Realizatori:  NIEDERKORN, Ioan (autor), WOHL, Andrei (autor) Descriptori:  chimie