Sensitivity-optimized scatterometry for nanolithography Vezi publicația: Romanian Journal of Physics Anul publicaţiei: 2004Referinţă bibliografică pentru nr. revistă: 49-9-10; anul 2004 Paginaţia: 909-917 Navigare în nr. revistă: |< < 22 / 26 > >| Realizatori:  LOGOFĂTU, P. (autor), APOSTOL, D. (autor), DAMIAN, V. (autor), NASCOV, V. (autor), GAROI, F. (autor), TIMCU, A. (autor), IORDACHE, Iuliana (autor) Descriptori:  fizică