In situ evaluation of the chemical capor deposition rates of some thin films on silicon by infrared interference Vezi publicația: Revue Roumaine de Chimie Anul publicaţiei: 1978Referinţă bibliografică pentru nr. revistă: 23-4; anul 1978 Paginaţia: 515-522 Navigare în nr. revistă: |< < 7 / 28 > >| Realizatori:  MOROȘANU, Constantin (autor), SEGAL, Eugen (autor) Descriptori:  chimie, Si