Deposition kinetics of silicon dioxide from silane and oxygen at low temperature Vezi publicația: Revue Roumaine de Chimie Anul publicaţiei: 1983Referinţă bibliografică pentru nr. revistă: 28-1; anul 1983 Paginaţia: 57-63 Navigare în nr. revistă: |< < 10 / 19 > >| Realizatori:  CIOBANU, C. (autor), PAVELESCU, C. (autor) Descriptori:  chimie