Absolute analysis and profiling of oxygen in silicon wafers Vezi publicația: Romanian Reports in Physics Anul publicaţiei: 1993Referinţă bibliografică pentru nr. revistă: 45--7-8; anul 1993 Paginaţia: 565-574 Navigare în nr. revistă: |< < 6 / 11 > >| Realizatori:  PETRAȘCU, M. (autor), PETRAȘCU, H. (autor), PANICA, M. (autor), ZAINEA, D. (autor) Descriptori:  fizică, O