Progresses related to the study of Boron diffusion in Silicon Vezi publicația: Revue Roumaine de Physique Anul publicaţiei: 1987Referinţă bibliografică pentru nr. revistă: 32-10; anul 1987 Paginaţia: 1067-1075 Navigare în nr. revistă: |< < 6 / 10 > >| Realizatori:  GĂISEANU, F. (autor) Descriptori:  fizică, B, Si