The electrical resistance VS temperature dependence of RF sputtered in high argon pressure CrNi (65:35) thin films Vezi publicația: Romanian Journal of Physics Anul publicaţiei: 1994Referinţă bibliografică pentru nr. revistă: 39-7-8; anul 1994 Paginaţia: 599-603 Navigare în nr. revistă: |< < 12 / 15 > >| Realizatori:  BÎRJEGA, M. (autor), SANDU, V. (autor), POPA, S. (autor), ALEXE, M. (autor), SÎRBU, C. (autor) Descriptori:  fizică, Cr, Ni